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膜厚容忍度可达500 nm的有机太阳电池阴极界面材料

中国科学化学 中国科学化学 2021-12-24
摘要

北京化工大学谭占鳌教授团队面向有机太阳电池全印刷制备工艺,针对界面层膜厚敏感、不适于大面积溶液加工的难题,开发出膜厚容忍度可达500 nm的SnO2阴极界面材料。








有机太阳电池(OSC)凭借其轻巧、颜色美观和可大面积柔性制备的独特优势而备受关注。为了加速OSC从实验室向生产线的转移,要求所有功能层(阴极界面层、活性层、阳极界面层)必须适合于全溶液大面积生产工艺,如刮刀涂布、喷墨打印和辊对辊印刷。大面积溶液加工工艺难以保证超薄膜的厚度均匀性,因此器件的所有功能层必须具有宽的厚度容忍性。活性层的典型厚度约为80~120 nm,目前大面积溶液加工工艺基本可以满足活性层的厚度要求。但是,界面层的厚度小于30 nm(通常约为10 nm),并且轻微的厚度变化可能会导致性能显著下降,因此采用溶液加工的方法印刷电极界面层面临着巨大的挑战。迄今为止,鲜有厚度容忍性可达数十至数百纳米电极界面层的研究报道,这严重制约了全印刷OSC的发展。

金属氧化物是一类性能优异的半导体材料。与TiOx和ZnO等金属氧化物相比,SnO2具有制备温度低、光学透明性高、能带合适和电子迁移率高等突出优点,作为光电器件中的电子传输层备受关注。但是,普通的SnO2与活性层之间仍然存在较大的接触势垒。同时,SnO2表面的悬挂键和含氧基团等缺陷通常会充当电荷复合中心,从而降低器件的效率和使用寿命。此外,SnO2薄膜的致密度对器件的漏电流有重要影响,薄膜中微小的针孔都可能导致活性层和衬底的直接接触,致使界面处载流子复合严重。因此,采用常规方法合成的SnO2纳米粒子存在表面缺陷和团聚的问题,直接将其用作电子传输层无法有效地抑制载流子复合。最近,谭占鳌团队采用直接沉淀法,制备出膜厚达500 nm,可印刷加工的SnO2阴极界面层。通过将KOH水溶液滴加到SnCl4水溶液中,调节pH值至12,无需过滤或离心即可得到分散性能优异、储存时间长、富含钾离子的SnO2纳米粒子水溶液。如图1所示,制得的SnO2纳米粒子粒径均匀,其大小约为3~4 nm。高分辨率TEM和XRD均表明SnO2纳米粒子具有高度结晶,这有助于减少SnO2中的缺陷态密度,进而有利于电荷传输。此外,SnO2还表现出高的导电性和良好的成膜性,将其旋涂于基底上可以得到均匀致密的薄膜,这有助于抑制漏电流。

1  SnO2纳米粒子形貌及组成. (a)旋涂在硅片上SnO2薄膜的SEM图像; SnO2纳米粒子粉末的电子衍射(b)和XRD(c)图;SnO2纳米粒子的(d)低分辨TEM, (e)高分辨TEM和(f)STEM-EDX图 通过测试不同厚度界面层单电子器件的J-V曲线,可以获得SnO2薄膜的陷阱密度(Nt)和电子寿命(τn)信息,如图2所示。当SnO2界面层的厚度在10~60 nm时,陷阱密度Nt相对较低(7~9×1015 cm-3)。当进一步增加SnO2的厚度至100~530 nm时,Nt并无显著增加(1.23~1.28×1016 cm-3),表明SnO2的厚度对器件的界面陷阱密度没有明显影响。薄的SnO2膜具有较长的电子寿命,随着膜厚增加,电子寿命略有降低。SnO2膜厚为10 nm时,电子寿命τn为2.62 μs,当SnO2膜厚增大到530 nm时,其电子寿命τn仍可达1.56 μs。陷阱密度和电子寿命计算表明,SnO2具有优异的厚度容忍性,在厚膜的情况下依然具有低的缺陷密度和长的电子寿命,可实现高效的大面积器件。

2  (a) 具有不同厚度SnO2单电子器件的J-V曲线; (b) 陷阱密度(Nt)和电子寿命(τn)随SnO2厚度的变化     所制备的SnO2阴极界面材料在基于PM6:Y6和PM6:IT-4F等多种活性层体系里面表现出优异的光伏性能,如图3所示。在标准界面层厚度下(10 nm),基于活性层为PM6:Y6的反向结构OSC的PCE可达16.10%,即使旋涂的膜厚增至160 nm时,效率依然可达13.07%,刮涂的SnO2膜厚为530 nm时,效率仍然可达12.08%。更令人鼓舞的是,以刮涂的SnO2 作为阴极界面层,100 mm2的大面积有机太阳电池的效率也可达12.74%。SnO2高的膜厚容忍性得益于钾离子对SnO2的表面钝化,从而大幅降低了陷阱密度,提升了电子寿命。该工作为大面积可印刷电极界面材料提供了一种解决思路。论文第一作者为华北电力大学白一鸣副教授,通讯作者为谭占鳌教授。

3  基于旋涂和刮涂法制备不同厚度和不同面积SnO2薄膜反向结构OSC的J-V和EQE曲线 详见:Bai Y, Zhao C, Zhang S, Zhang S, Yu R, Hou J, Tan Z, Li Y. Printable SnO2 cathode interlayer with up to 500 nm thickness-tolerance for high-performance and large-area organic solar cells. Sci. China Chem., 2020, DOI: 10.1007/s11426-020-9744-4.




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作者简介



谭占鳌,北京化工大学教授,博士生导师,现任北京软物质科学与工程高精尖创新中心副主任。目前主要研究方向为有机光电器件中的电极界面材料研究,包括聚合物/钙钛矿太阳电池和量子点/钙钛矿电致发光器件。入选北京市“科技新星”计划和教育部“新世纪优秀人才”支持计划。近年来在Nat. Photon., Nat. Commun.Adv. Mater., J. Am. Chem. Soc.等国际期刊上发表SCI论文160余篇,被引用7400余次。 


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